納米系統製造實驗所收費

2018年9月1日生效

甲.香港科技大學學生/職員(校內用戶)
  1. 進入實驗室收費
    1. 納米系統製造實驗所門卡,每卡港幣50元,不能退款。
    2. 賬戶維護費,每月港幣100元。
    3. 進門費,每小時港幣10元;每次最低消費港幣10元;每月最多收取港幣300元。
    4. 補發遺失或損毀的門卡,每卡港幣50元。
    5. (請注意:如果你六個月沒有使用門卡,你的賬戶會自動暫停;如果你十二個月沒有使用門卡,你將被當作新用戶。)
  2. 使用設備收費
    1. 四類設備(請參考表二)
        • 第一類:免費
        • 第二類:每小時港幣20元,以小時為單位
        • 第三類:每分鐘港幣1元,以分鐘為單位
        • 第四類:每分鐘港幣2元,以分鐘為單位
    2. 收費根據你登入及登出設備的時間計算。
    3. 每用戶每月最高收費港幣2,000元。
  3. 其他收費
    1. 納米系統製造實驗所出售的實驗室材料(請參考表一)
    2. 金與鉑金沉積,以及用於熔爐工藝的鍺 (價格浮動)
    3. 掩膜板製作,每塊五吋掩膜板港幣750元
    4. 電子束光刻工序(請參考表三)
    5. 服務費,每小時港幣303元(內部作業要求)
    6. 如欲租用納米系統製造實驗所內的儲物櫃,需繳交港幣300元可退回按金。

      註:設備使用方面,如你預約了設備但沒有登入使用,須繳交罰款港幣200元。

乙.本地高等學院學生/職員(校外用戶)
  1. 進入實驗室收費
    1. 納米系統製造實驗所門卡,每卡港幣50元,不能退款。
    2. 賬戶維護費,每月港幣100元。
    3. 進門費,每小時港幣10元;每次最低消費港幣10元;每月最多收取港幣300元。
    4. 補發遺失或損毀的門卡,每卡港幣50元。

      (請注意:如果你六個月沒有使用門卡,你的賬戶會自動暫停;如果你十二個月沒有使用門卡,你將被當作新用戶。)

  2. 使用實驗室或設備收費
    1. 使用實驗室,每小時港幣613元,收費根據你門卡的紀錄計算。
    2. 使用設備,每小時港幣613元,收費根據你登入及登出設備的時間計算。
    3. 如使用實驗室與設備的時間重疊,只會收取一項費用。
  3. 其他
    1. 納米系統製造實驗所出售的實驗室材料(請參考表一)
    2. 金與鉑金沉積,以及用於熔爐工藝的鍺 (價格浮動)
    3. 納米系統製造實驗所迎新課程(甲、丙及丁部),每人港幣1,000元。
    4. 掩膜板製作,每塊五吋掩膜板港幣1,853元。
    5. 電子束光刻工藝(請參考表三)
    6. 由職員提供服務,每小時港幣303元。
    7. 如欲租用納米系統製造實驗所內的儲物櫃,需繳交港幣300元可退回按金。

      註:
      校外用戶需繳交以上述費用的額外16%作行政費。
      設備使用方面,如你預約了設備但沒有登入使用,須繳交罰款港幣200元。

丙.其他用戶(工業界、海外大學及其他用戶)
  1. 進入實驗室收費
    1. 納米系統製造實驗所門卡,每卡港幣50元,不能退款。
    2. 賬戶維護費,每月港幣100元。
    3. 進門費,每小時港幣10元;每次最低消費港幣10元;每月最多收取港幣300元。
    4. 補發遺失或損毀的門卡,每卡港幣50元。

      (請注意:如果你六個月沒有使用門卡,你的賬戶會自動暫停;如果你十二個月沒有使用門卡,你將被當作新用戶。)

  2. 使用實驗室或設備收費
    1. 使用實驗室,每小時港幣913元,收費根據你門卡的紀錄計算。
    2. 使用設備,每小時港幣913元,收費根據你登入及登出設備的時間計算。
    3. 如使用實驗室與設備的時間重疊,只會收取一項費用。
  3. 其他
    1. 納米系統製造實驗所出售的實驗室材料。(請參考表一)
    2. 金與鉑金沉積,以及用於熔爐工藝的鍺(價格浮動)

       

    3. 納米系統製造實驗所迎新課程(甲、丙及丁部),每人港幣1,000元。
    4. 掩膜板製作,每塊五吋掩膜板港幣3,338元。
    5. 電子束光刻工序(請參考表三)
    6. 由職員提供服務,每小時港幣303元。
    7. 如欲租用納米系統製造實驗所內的儲物櫃,需繳交港幣300元可退回按金。

      註:
      校外用戶需繳交以上述費用的額外16%作行政費。
      設備使用方面,如你預約了設備但沒有登入使用,須繳交罰款港幣200元。

表一:納米系統製造實驗所提供的實驗室材料

納米系統製造實驗所的實驗室材料

Item Name
 1. NFF Access Card
 2. AFM Non-Contact Cantilever, Model: PPP-NCHR
 3. Plastic Box for the AFM Cantilever
 4. 4" SOI Wafer with a 100µm-thick silicon layer
 5. 4" quartz wafer
 6. 12" Magnopad 300 Teflon-coated steel disc
 7. 12" TexMet P Polishing Cloth, PSA (For 15 µm)
 8. 12" VerduTex Polishing Cloth, PSA (For 9, 6 and 3 µm)
 9. 12" ChemoMet Polishing Cloth, PSA (For 1 and 0.06 µm)
 10. 10" Magnopad 250 Teflon-coated steel disc
 11. 10" TexMet P Polishing Cloth, PSA (For 15 µm)
 12. 10" VerduTex Polishing Cloth, PSA (For 9, 6 and 3 µm)
 13. 10" MicroCloth Polishing Cloth, PSA (For 1 and 0.06 µm)
 14. EPI wafer, N-type (Type I)
 15. 4" Double-side Polished, 525 µm, N-type Silicon wafer
 16. 4" Double-side Polished, 400 µm, N-type Silicon wafer
 17. 4" Double-side Polished, 400 µm, P-type Silicon wafer
 18. 4" Double-side Polished, 200 µm, N-type Silicon wafer
 19. 4" Double-side Polished, 200 µm, P-type Silicon wafer
 20. 4" Single-side Polished, 525 µm, N-type Silicon wafer
 21. 4" Single-side Polished, 525 µm, P-type Silicon wafer
 22. 4" Glass wafers, 500 µm, for anodic bonding to Silicon
 23. 6" Single-side Polished, 675 µm, N-type Silicon wafer
 24. 6" Single-side Polished, 675 µm, P-type Silicon wafer
 25. 1 µm oxide-coated, 525 µm, Single-side Polished N-Type Silion wafer
 26. 1 µm oxide-coated, 525 µm, Single-side Polished P-Type Silicon wafer
 27. 1 µm oxide-coated, 400 µm, Double-side Polished N-Type Silicon wafer
 28. 1 µm oxide-coated, 400 µm, Double-side Polished P-Type Silicon wafer
 29. 3 µm oxide-coated, 400 µm, Double-side Polished N-Type Silicon wafer
 30. 3 µm oxide-coated, 400 µm, Double-side Polished P-Type Silicon wafer
 31. BCR Cleanroom notebook (100 pages)
 32. Cleanroom paper (50 sheets)
 33. Diamond Scriber
 34. Plastic tweezers for small samples
 35. Tweezers
 36. 2" Single Wafer Carrier with springs
 37. Wafer Storage Box for 25pcs wafers
 38. 1" Single Wafer Carrier with springs
 39. 4" Single Wafer Carrier with springs
 40. 6" Single Wafer Carrier with springs
 41. Other wafers
 

註:物料及價格可能會有變動。

 

表二:設備類別

第一類:免費

All metrology equipment
Optical microscopes
Wetstations
Ovens/Hot Plates
Photoresist Coaters
Wafer Tracks
O2 Plasma Ashers
USI Wafer Cleaner
Karl Suss Bonder SB6
Surface Profiler
Critical Point Dryer
 

第二類:每小時港幣20元

Charge is based on when a user checks-in and out for the equipment.

Sputtering equipment
Varian 3180 Sputterer
CVC-601 Sputterer
ARC-12M Sputterer
Denton Sputterer
Edward Sputterer (Au) for SEM
NSC3000 Sputterer
     
E-beam evaporators
Cooke Evaporator
AST 600EI Evaporator
AST 450I Evaporator
     
PECVD
STS PECVD
310PC PECVD
TEOS PECVD
CNT PECVD
     
Copper Electroplating
LPCVD
LPCVD-A2 Doped Amor-Si
LPCVD-A3 Amor-Si/Poly
LPCVD-A4 Si-Ge/Amor-Si/Poly
LPCVD-B1 Low-Stress Nitride
LPCVD-B2 Nitride
LPCVD-B3 LTO
LPCVD-B4 LTO/PSG
LPCVD- F2 Nitride/Low-Stress Nitride
LPCVD- F3 Amor-Si/Poly
LPCVD-F4 LTO/PSG
     
Ion implanter
CF-3000 Implanter
 

第三類:每分鐘港幣1元

Charge is based on when a user checks-in and out for the equipment.

Dry etchers
Lam 490 Etcher
Poly Etcher
GaN Etcher
DRIE Etcher #1/#2/#3
AOE Etcher
Oxford RIE Etcher
AST Metal Etcher
XeF2 Silicon Etcher
Trion RIE Etcher
Oxford Aluminum Etcher
NFF RIE Etcher
   
ET3000 Epitaxy
   
RTA
RTP-600S
AG610 RTP
AW610 RTP
   
Diffusion furnaces
Diff. Furnace-C1 FGA Annealing
Diff. Furnace-C2 N Pre-Deposition
Diff. Furnace-C3 P Pre-Deposition
Diff. Furnace-C4 FGA Annealing
Diff. Furnace-D1 Dry Oxidation
Diff. Furnace-D2 Dry/Wet Oxidation
Diff. Furnace-D3 Annealing/Dry/Wet Oxidation
Diff. Furnace-D4 Annealing
Diff. Furnace-F1 Annealing/Dry/Wet Oxidation
   
ALD
Oxford ALD
   
Photolithography equipment
Nanoscribe 3-D Printer
 

第四類:每分鐘港幣2元

Charge is based on when you check in and out for the equipment.

Photolithography equipment
ASML Stepper
Karl Suss MA6
AB-M Aligner
   
CMP
Strasbaugh CMP
Wafer polisher and grinder
Silicon Grinder
Buehler Polisher
   
 

註:每個類別的設備有可能變動。

表三:電子束光刻工序收費
  Substrate Long Job* Short Job**
HKUST Internal Users 5"x5" soda lime HK$2,244 HK$1,494
  5"x5" quartz mask HK$2,814 HK$2,064
  Wafer or chip sample HK$2,232 HK$1,482
  Nano-imprint mask HK$2,746 HK$1,996
External Users 5"x5" soda lime HK$4,374 HK$3,624
  5"x5" quartz mask HK$4,944 HK$4,194
  Wafer or chip sample HK$4,362 HK$3,612
  Nano-imprint mask HK$7,006 HK$6,256
Industry Users 5"x5" soda lime HK$9,807 HK$6,341
  5"x5" quartz mask HK$10,377 HK$6,910
  Wafer or chip sample HK$9,795 HK$6,328
  Nano-imprint mask HK$12,439 HK$8,971

**短工序:使用時間三小時或以下
*長工序:使用時間三小時以上

所有價格均有可能變動,而無須另行通知。