化學品安全說明書

msds

於納米系統製造實驗所使用任何新化學品或氣體產品前,必須提交《化學品安全說明書(MSDS)》予納米系統製造實驗所管理部門審批,其後《化學品安全說明書》的副本將儲存於黃色文件夾內,並擺放於以下四個位置以供查閱,包括:

  1. 走廊入口(3232室)
  2. 千級區域濕化工藝臺A附近
  3. 百級區域激光直寫系統附近(「黃光區」)
  4. 納米系統製造實驗所第三期機房(4163室)

《化學品安全說明書》旨在為用戶提供以下資訊:

  1. 產品的危害
  2. 如何安全地使用產品
  3. 在未有跟隨指引下可能引致的後果
  4. 遇上意外發生應如何處理
  5. 如何辨識過度接觸的徵狀
  6. 遇上過度接觸應如何處理

《化學品安全說明書》包含八類資訊:

  1. 產品資訊:產品名稱,以及製造商與供應商的名稱、地址和緊急聯絡電話
  2. 危險化學組分
  3. 物理數據
  4. 燃燒或爆炸數據
  5. 反應活性數據:產品的化學穩定性,以及有可能與其產生化學反應之物料
  6. 毒理學特性:對健康的影響
  7. 預防措施
  8. 急救措施
化學品安全說明書連結
Inorganic Chemicals Organic Chemicals Gasous
Ammonium Hydroxide Acetone Ammonia
Acetic Acid IPA Argon
Cr Etchant AZ 1518 Photoresist Boron Trifluoride
Buffer Oxide Etchant, BOE AZ P4903 Photoresist Arsine
Ammonium Persulphate AZ 4620 Photoresist Chlorine
Hydrochloric Acid AZ 9260 Photoresist Hydrogen in Nitrogen
Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH AZ 5206-E Photoresist Sulfur Hexafluoride
Freckle Etchant AZ 5214-E Photoresist Silane
Hydrofluoric Acid AZ 5200NJ Photoresist Dichlorosilane
Hydrogen Peroxide AZ 7908 Photoresist Germane
Iodine AZ MiR 703 Trifluoromethane
Potassium Iodide HPR-504 Photoresist Carbon Tetrafluoride
Sulfuric Acid HPR-506 Photoresist Hexafluoroethane
777 Etchant FH-6400L Photoresist Phosphine
Semi-Sperse 12, 25 Aqueous Dispersion Megaposit SPR660 Photoresist Phosphine in Silane
Semi-Sperse P1000 Aqueous Dispersion Microposit LOL 2000 Helium
Nitric Acid AZ 300 MIF Developer Nitrogen
Phosphoric Acid FHD-5 Developer Hydrogen
Potassium Hydroxide AZ 400K Developer Nitrogen Dioxide
Sodium Thiosulfate AZ 1500 Thinner Oxygen
  MEK  
  FH-ER  
  EKC265 Polymer Stripper  
  MS-2001 Photoresist Stripper  
  Hexamethyldisilazane, HMDS  
  SU8 Developer  
  SU8-2000 Series resists  
  SU8-3000 Series resists  
  Sylgrad 184 Silicon Elastomer, PDMS  
  ProTEK B3 Primer  
  ProTEK B3